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CTAB 表面活性劑

CTAB 表面活性劑

說明(ming)：CTAB是(shi)一種(zhong)陽離子(zi)去(qu)污(wu)劑，具有從(cong)低離子(zi)強度的溶液(ye)中(zhong)沉(chen)淀(dian)核(he)酸(suan)和酸(suan)性(xing)多(duo)聚糖的特性(xing)，在這種(zhong)條(tiao)件(jian)下，蛋(dan)白(bai)質(zhi)(zhi)和中(zhong)性(xing)多(duo)聚糖仍留在溶液(ye)里(li)，在高離子(zi)強度的溶液(ye)里(li)，CTAB與蛋(dan)白(bai)質(zhi)(zhi)和大(da)多(duo)數酸(suan)性(xing)多(duo)聚糖以(yi)(yi)(yi)外的多(duo)聚糖形成(cheng)復(fu)合物，只(zhi)是(shi)不能沉(chen)淀(dian)核(he)酸(suan)。因此，CTAB可以(yi)(yi)(yi)用于從(cong)大(da)量產生粘多(duo)糖的有機體(ti)如植物以(yi)(yi)(yi)及某些(xie)革蘭氏陰性(xing)菌(包括E.coli的某些(xie)株)中(zhong)制(zhi)備純化DNA 。

CAS＃：57-09-0
特性：純度：>99.0%
溶解性：20℃，溶于水，參考濃度0.1M 。
R：36/37/38-23/24/25-34 S：36/37/39
儲存條件(jian)：室溫干燥保存

CTAB呈白色或淺黃(huang)色結(jie)晶(jing)體(ti)(ti)粉末狀(zhuang)，有刺激氣味，易(yi)溶(rong)于異丙醇，可溶(rong)于水，震蕩時產生大量(liang)泡沫，能與陰離子、非(fei)離子、兩性(xing)(xing)表面活性(xing)(xing)劑(ji)有良好的(de)(de)配位(wei)性(xing)(xing)。具有優良的(de)(de)滲透、柔化(hua)、乳化(hua)、抗靜(jing)電、生物降解性(xing)(xing)及殺(sha)菌等性(xing)(xing)能。

溴化(hua)十(shi)六烷基(ji)*an：CTAB是(shi)一種陽(yang)離(li)子去污劑(ji)，具有(you)從(cong)低離(li)子強度的(de)(de)(de)(de)溶液(ye)中沉淀(dian)核(he)酸(suan)和(he)酸(suan)性多(duo)聚糖(tang)(tang)(tang)的(de)(de)(de)(de)特性，在(zai)這種條件下，蛋(dan)白(bai)質(zhi)和(he)中性多(duo)聚糖(tang)(tang)(tang)仍留在(zai)溶液(ye)里(li)，在(zai)高(gao)離(li)子強度的(de)(de)(de)(de)溶液(ye)里(li)，與蛋(dan)白(bai)質(zhi)和(he)大多(duo)數(shu)酸(suan)性多(duo)聚糖(tang)(tang)(tang)以外的(de)(de)(de)(de)多(duo)聚糖(tang)(tang)(tang)形成(cheng)復(fu)合(he)物，只是(shi)不能(neng)沉淀(dian)核(he)酸(suan)。因此，CTAB可以用于從(cong)大量產生粘多(duo)糖(tang)(tang)(tang)的(de)(de)(de)(de)有(you)機(ji)體如植物以及某(mou)些(xie)革(ge)蘭氏陰性菌(包括E.coli的(de)(de)(de)(de)某(mou)些(xie)株)中制(zhi)備純化(hua)DNA 。

CTAB原理：CTAB是一種陽離子去污劑，具有從低離子強度的溶液中沉淀核酸和酸性多聚糖的特性，在這種條件下，蛋白質和中性多聚糖仍留在溶液里，在高離子強度的溶液里，能夠與蛋白質和大多數酸性多聚糖以外的多聚糖形成復合物，只是不能沉淀核酸，從而將核酸分離出來。
CTAB使用方法：
1.提取DNA配方：
CTAB 4g
NaCl 16.364 g
1M Tris-HCl 20 mL( PH8.0)

2.提取RNA配方
2% CTAB（W/V）
2%聚乙烯吡咯烷酮PVP（W/V）
100 mM Tris-HCl（pH8.0,DEPC處理的水配制）
25mM EDTA
由于在高溫滅菌條件下，Tris-HCl要和DEPC發生反應，所以配RNA提取緩沖液時直接用DEPC 處理的水
CTAB使用注意事項：具(ju)有(you)刺激性(xing)，若吸(xi)(xi)入(ru)、攝入(ru)或皮膚吸(xi)(xi)收，會(hui)對(dui)人體有(you)害。使用(yong)時要戴(dai)合適的手套和防(fang)護(hu)眼鏡（或在通風櫥操作）。避免吸(xi)(xi)入(ru)其(qi)粉塵(chen)。